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发布时间:2020-10-21 08:28:20
2.2.7热阴频溅射(三极型溅射)hotcathodehighfrequencysputtering:借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电,气体放电产生的离子,在靶表面负电位的作用下加速而轰击靶的溅射。
2.2.8离子束溅射ionbeamsputtering:利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。
2.2.9辉光放电清洗glowdischargecleaning:利用辉光放电原理,使基片以及膜层表面经受气体放电轰击的清洗过程。
2.3物***相沉积;PVDphysicalvapordeition:在真空状态下,镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化,沉积到基片上的一种制取膜层的方法。
PVD镀膜五金镀膜价格
真空镀膜表面处理工艺后铝型材的特征
磨砂面料型材:磨砂面铝型材避免了光亮的铝合金型材在建筑装饰中存在环境、条件下会形成光的干扰的缺点,它的表面如锦缎一样细腻柔和,很受市场的青睐,但现有的磨砂材须克服表面砂粒不均匀,并能看到模纹的不足。
PVD镀膜技术的原理?
?PVD镀膜(离子镀膜)技术,其具体原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
真空电镀原理
电镀厂需要一个向电镀槽供电的低压大电流电源以及由电镀液、待镀零件(阴极)和阳极构成的电解装置。其中电镀液成分视镀层不同而不同,但均含有提供金属离子的主盐,能络合主盐中金属离子形成络合物的络合剂,用于稳定溶液酸碱度的缓冲剂,阳极活化剂和特殊添加物(如光亮剂、晶粒细化剂、整平剂、润湿剂、应力消除剂和抑雾剂等)。电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下,经电极反应还原成金属原子,并在阴极上进行金属沉积的过程。因此,这是一个包括液相传质、电化学反应和电结晶等步骤的金属电沉积过程。
PVD镀膜技术在锁具行业基材上做表面改性装饰与耐用效果。水电镀无法做到的,真空技术几乎都可以实现各种颜色效果,环保工艺。而且锁具加工真空镀膜技术加工在整体显得大气,让人类生活多姿多彩。
真空PVD镀膜技术在手机外壳/中框及配件
手机外壳与及中框、摄像头保护圈,槽,音量按键,电源开关键等装饰件在不锈钢基材上采用真空PVD镀膜技术,加强使用耐磨硬度和颜色多种选择。
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