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发布时间:2020-06-11 22:23:18
物***相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。真空镀膜技术一般分为两大类,即物***相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。同时,物***相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下,因此可作为***终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物***相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能,人们在竞相开发高i性能、高可靠性设备的同时,也对其应用领域的扩展,尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。
3.晶格有序度的均匀性:
这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题,具体见下。
主要分类有两个大种类:
蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等
一、对于蒸发镀膜:
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
真空镀膜技术的发展与真空镀膜油的开发成功是密不可分的。在各种不一样的电镀液中,金属镀层的布局特性也是不一样的,主要是堆积进程不一样所造成的。从某种意义上,我们甚至可以说,没有真空镀膜油就没有真空镀膜。这是由真空镀膜油的作用所决定的。在真空镀膜的过程中,镀膜油起着牢固粘结镀件与金属膜的作用(即作为镀件的底涂层);真空镀膜后,须在镀件表面涂上一层镀膜油,这时该油又起着保护金属膜、染色等作用(即作为镀件的面涂层)。大部份材料在进行镀膜之前,都必须在镀件表面涂上一层薄薄的镀膜油,彻底干燥之后再行镀膜,否则,镀上的金属膜极易脱落,轻轻用手即可擦掉。真空镀膜过程中,镀膜质量的好坏很大程度上取决于底涂层的质量。
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