东莞市泰坦金属制品(图)-手机壳真空镀膜-真空镀膜

处理对真空电镀层的质量有何影响吗？

真空镀膜的黏附性比较差，容易脱落电镀的种类很多， 水电镀的膜厚比真空溅镀的厚，水电镀膜厚一般为15~20UM，真空电镀 的膜厚一般为0.5~2UM.水电镀的化学液不同会有不同的色彩。 真空电镀的靶材不同镀膜颜色不同，真空电镀的功率，pvd真空镀膜，真空等级不同会有颜色的变化。溅镀 溅镀是利用离子轰击靶材，击出靶材原子变成气相并析镀于基材上。溅镀具有广泛应用的特性，真空镀膜，几乎任何材料均可析镀上。

基体外表状况对镀层布局的影响

　　真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的，晶体的大小、形状及摆放方法决议着镀层的布局特性。在各种不一样的电镀液中，金属镀层的布局特性也是不一样的，主要是堆积进程不一样所造成的。开端电镀时，基体资料外表首要生成一些纤细的小点，手机壳真空镀膜，即结晶核，跟着时刻添加，单个结晶数量添加，并相互衔接成片，构成镀层。

PVD真空镀膜过程的均匀性

PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

薄膜均匀性的概念：

厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。