真空镀膜加工-泰坦金属-真空镀膜加工厂

真空镀膜机镀塑料时抽真空时间过长主要原因就是塑料产品的放气量太大或真空室有漏气现象。

(1)真空室有漏气现象：大家都知道，真空蒸发镀膜机是的基本条件是工件在真空状态下才能进行镀膜加工的，若真空室有漏气现象而没有经过检漏找出漏气位置，不锈钢真空镀膜加工，则真空镀很长时间都不能抽得上来的；

(2)即使真空室没有漏气，因为塑料产品的放气量大，所以抽真空，特别是高真空很难达到。而且由于塑料产品的放气，造成真空室内镀膜气体的不纯，有杂气的存在，造成镀膜产品的颜色发暗，发黄，发黑等。

一般镀制塑料产品的泵组都配置大功率或者大口径的分子泵或者扩散泵，大马拉小车的理论。

　真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年， 开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年， 透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。1839年， 开始研究电弧蒸发(Hare)。开始研究真空溅射镀膜(Grove；Pulker)。1857年，真空镀膜加工， 在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday；Conn)。 1874年，真空镀膜加工厂， 报道制成等离子体聚合物(Dewilde；Thenard)。1877年，薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。1880年， 碳氢化合物气相热解(Sawyer；Mann)。1887年， 薄膜的真空蒸发(坩埚) (Nahrwold；Pohl；Pringsheim)。开始研制形成减反射膜的化学工艺。研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD)； 膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。

2.2.2偏压溅射biassputtering：在溅射过程中，将偏压施加于基片以及膜层的溅射。

2.2.3直流二级溅射directcurrenodesputtering：通过二个电极间的直流电压，使气体自持放电并把靶作为阴极的溅射。

2.2.4非对称流溅射asymmtricalternatecurrentsputtering：通过二个电极间的非对称流电压，使气体自持放电并把靶作为吸收较大正离子流的电极。

2.2.5高频二极溅射highfrequencydiodesputtering：通过二个电极间的高频电压获得高频放电而使靶极获得负电位的溅射。

2.2.6热阴极直流溅射（三极型溅射）hotcathodedirectcurrentsputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电所产生的离子，由在阳极和阴极（靶）之间所施加的电压加速而轰击靶的溅射。