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?真空镀膜加工金属真空镀膜厂

真空镀膜操作规程

1.在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，必须先开水管，工作中应随时注意水压。

2.在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电......1.在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，必须先开水管，工作中应随时注意水压。

2.在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。

3.在用电子枪镀膜时，应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃铅玻璃，观察时应戴上铅玻璃眼镜，以防X射线侵害***。

4.镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除***粉尘。

5.***物品要妥善保管，以防。

6.酸洗夹具应在通风装置内进行，并要戴橡皮手套。

7.把零件放入酸洗或碱洗槽中时，应轻拿轻放，不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。

8.工作完毕应断电、断水。

由水平调整的自准直仪发出一束激光穿过真空室的玻璃窗照射固定于工作台上的反射镜，在大气环境下调变补偿调节机构，

使反射光束进入自准直仪接收视场，记录两维角度偏差。真空镀膜加工

按有限元计算的真空状态下的补偿量再次调整，显然，此时的反射光束已远离自准直仪接收视场，但一旦真空室进入真空状态，

反射光束又重新进入自准直仪的接收视场，记录此时的两维角度偏差。前后两次显示的两维角度偏差基本吻合。

　　真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。

众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。

真空镀膜

②光密度法。光密度(OD)定义为材料遮光能力的表征。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。

计算公式为： OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率） 通常镀铝膜的光密度值为l～3(即光线透过率为0.10/0~10%)，数值越大镀铝层越厚。 光密度OD值、方阻值对应的铝层厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和铝层厚度对照表 光密度 OD值 电阻值 Ohm/Square方阻值 铝层厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600