pvd真空镀膜报价-pvd真空镀膜-泰坦金属制品有限公司

CVD真空镀膜厂家的TAC膜层特点及应用：本公司为客户提供质高价优的镀膜服务，镀制的主要膜层有TAC（金刚石膜），这种膜层有以下性能：

TAC膜层的特点：

1. TAC(类金刚石)膜层有很高的硬度（HV6000），优良的耐磨性能，摩擦系数极低（低至0.08），pvd真空镀膜，膜层厚度1-2um

2. 具有优异的耐蚀性，能耐各种酸、碱等腐蚀。

3. 对金属、塑料、橡胶、陶瓷等均有良好的抗粘结和防咬合性能

4. 表面粗糙度低（可达镜面级）

5. 与基体结合力很强，可以在各种钢铁、钛合金、铝合金、硬质合金等材料上沉积

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，pvd真空镀膜加工，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

真空镀膜加工是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。

真空镀膜加工技术的一般术语及工艺

2.1.8激光束蒸发：通过激光束加热蒸发材料的蒸发。

2.1.9间接加热的蒸发：在加热装置(例如小舟形蒸发器，坩埚，灯丝，加热板，pvd真空镀膜报价，加热棒，螺旋线圈等)中使蒸发材料获得蒸发所须的热量并通过热传导或热辐射方式传递给蒸发材料的蒸发。

2.1.10闪蒸：将很少量的蒸发材料间断地做瞬时的蒸发。

2.2真空溅射：在真空中，惰性气体离子从靶表面上轰击出原子（分子）或原子团的过程。

2.2.1反应性真空溅射：通过与气体的反应获得理想化学成分的膜层材料的真空溅射。